編號(hào) | 內(nèi)容 | 規(guī)格參數(shù) |
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1 | 機(jī)臺(tái)型號(hào) | 準(zhǔn)輝光常壓寬幅等離子模組 |
2 | 機(jī)臺(tái)規(guī)格 | 緊湊的模塊化設(shè)計(jì) (寬:60mm) |
3 | 處理寬度 | 100~10000mm(可定制) |
4 | 基片溫度 | < ~ 40 °C |
5 | 處理速度 | 約400毫米/分鐘 (接觸角< 10 °) |
6 | 臭氧釋放量 | ( < ~ 0.01 ppm) |
特點(diǎn):模塊化設(shè)計(jì),結(jié)構(gòu)緊湊,便于安裝到流水線設(shè)備上。有極好的高速處理效果。較低的等離子處理溫度不存在熱損傷和熱氧化的問(wèn)題 主要應(yīng)用:白玻璃 清潔,絕緣薄膜清潔活化,平板覆膜清潔。 |
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