HDI板上的污漬主要來源于生產過程中的油脂、塵埃、金屬氧化物、有機殘留物等。這些污漬不僅附著在板面,還可能深入微孔和精細線路之中,嚴重影響電路的導通性和信號的傳輸效率。此外,污漬還可能成為水分和腐蝕性物質的“藏身之地”,加速HDI板的老化和腐蝕,降低產品的使用壽命。
等離子清洗機利用高頻電場將工作氣體(如氬氣、氮氣等)電離成高能等離子體,這些等離子體中的電子、離子和自由基等活性粒子,在電場的作用下以極高的速度撞擊HDI板表面,產生強烈的物理和化學效應。
物理效應:高速運動的粒子對污漬進行物理轟擊,使其從HDI板表面剝離。
化學效應:等離子體中的活性粒子與污漬發生化學反應,生成揮發性物質,隨后被真空系統抽走。
表面改性:等離子體還能改變HDI板表面的化學性質,如增加表面能,提高后續工藝的粘附力。
深度清潔:等離子體能夠滲透到HDI板的微小孔洞中,實現深度清潔,這是傳統清洗方法難以做到的。
無損傷清洗:等離子清洗是干式清洗過程,無需使用化學溶劑,避免了對HDI板基材的腐蝕和損傷。
高效環保:清洗過程中產生的污染物可以被真空系統直接收集,減少了環境污染。
工藝可控:通過調整等離子體的參數(如氣體種類、功率、時間等),可以精確控制清洗效果,滿足不同HDI板的需求。
在HDI板的生產線上,等離子清洗機被廣泛應用于去除油脂、塵埃、金屬氧化物等污漬。實踐證明,經過等離子清洗的HDI板,其表面清潔度顯著提高,電路導通性和信號傳輸效率得到優化,產品的可靠性和穩定性也得到了大幅提升。此外,等離子清洗還能有效減少后續工藝中的缺陷率,提高生產效率和良品率。
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